EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Princeps puritatis graphite mollis filtrum
Velox Detail:
1. Alia nomina: feltrum flexibile graphitatum insulans, feltrum molle semiconductoris campi thermalis, feltrum graphitatum.
2. Usus: Insulatio campi thermalis semiconductorum, apparatuum photovoltaicorum, fornacis extinguentis gasis altae pressionis in vacuo, fornacis silicii monoclistalini et aliarum insulationum apparatuum altae temperaturae.
3. Parametri principales: puritas ≥99.99%, tolerantia maxima temperaturae 3000℃, conductivitas thermalis 0.15-0.24W/m·K.
Description
Semixlab est princeps fabricator feltri mollis graphiti altae puritatis in Sinis, intendens in solutionibus insulationis thermalis summae efficacitatis praebendis pro campis semiconductorum, photovoltaicorum, et industrialibus altae temperaturae. Hoc productum materiam crudam graphiti altae puritatis importatam (contentum impuritatum ≤0.1%), ex structura reticulata fibrarum per processum specialem factam, adhibet, et proprietates principales habet ut conductivitatem thermalem infimam (≤ 0.25W /m·K ad 1000℃), resistentiam temperaturae extremae altae (temperatura usus continui 3000℃) et inertiam chemicam, quae materia idealis est ad systema campi thermalis accurati construendum.
Feltum molle graphitum altae puritatis est materia insulationis principalis pro systemate campi thermalis apparatuum semiconductorum et photovoltaicorum. Per texendi accuratam et congestionem fibrarum graphiti altae puritatis, structura porosa cum conductivitate thermali humili formatur. In ambitu temperaturae altae (e.g., supra 800℃), iacturam caloris significanter minuit reflectendo calorem radiantem et iter translationis caloris phasis solidae minuendo.
Secundum differentiam materiarum primarum, producta in tres categorias dividuntur:
Feltum molle graphitum e PAN factum: proprietates mechanicae excellentes, processus productionis simplex, late in materiis structurarum sustentandarum adhibitum.
Feltum molle graphitum viscosum: resistentia ablativa fortis, difficultas technica magna, aptum ad scaenam insulationis caloris altae temperaturae.
Feltum molle graphiticum e pice factum: materiis crudis dives, carbonisationis altus, sed usus mercatus angustus est.
Specifications
| Scheda datorum pro Semixlab altae puritatis feltro molli graphito altae puritatis | ||||
| Index | Unit | Series XF-C Feltum Molle | ||
| X-008 | X-013 | |||
| Rayon-fundatus | Pan-fundatus | |||
| Densitas | g / cm3 | 0.08-0.11 | 0.12-0.14 | |
| Cogo vires | MPa | / | / | |
| Conductivitas thermalis (1000℃) | W/m·K | 0.15 | 0.24 | |
| Cinis (ante purificatus) | ppm | ≤200 | ≤500 | |
| dispensando caliditas | ℃ | 2400 ℃ | 2400 ℃ | |
| Temperatura maxima servitii | ℃ | 3000 ℃ | 3000 ℃ | |
| ratio | mm | Latitudo: ≤1600, Crassitudo: 5-10 | ||
| Applicatio | Photovoltaicum, Semiconductorium, Fornax Sinterizationis, Fornax Metallurgicus | |||
| Supradicta pro productis ordinariis. Si producta purissimae puritatis requiruntur, ad ≤20ppm purificanda sunt. | ||||
Applications
1. Instrumenta ad semiconductores fabricandos
Systema accretionis silicii monocrystallini:
In fornace monocrystalli methodo CZ, calefactor graphitus et crucibulum quartzum involvuntur ut accurata moderatio gradientis temperaturae liquefactionis (differentia temperaturae axialis ≤2℃/cm) efficiatur et stabilitas celeritatis incrementi monocrystalli confirmetur.
Fornax accretionis crystallorum carburi silicii:
Cum methodus PVT adhibita est, feltrum molle, ut stratum insulationis centrale, uniformitatem campi thermalis axialis in fornace 40% augere et ratem vitiorum crystallinorum ad < 0.5/cm² reducere potest.
2. Apparatus industriae photovoltaicae
Fornax lingotorum polycrystallinorum:
Designatio modularis congregationis efficientiam thermalem fornacis ad 85% auget, quod 30% energiae conservat comparatione cum feltro duro carbonis traditionali.
3. Instrumenta industrialia altae temperaturae
Celeritas refrigerationis per extinctionem strati insulationis caloris in camera calefactionis fornacis extinctionis gasis altae pressionis in vacuo 20% augetur.
Systema obturationis dynamicum in zona sinterizationis fornacis sinterizationis vacui consumptionem gasi argonis 15% minuit.
competitive Italiae Commodum Collegit
Puritas altissima: cinis ≤500ppm, 200ppm, 20ppm, ad singulorum necessitates aptari potest.
Resistentia temperaturae altissimae: temperatura operandi maxima 3000℃.
Resistentia corrosionis acidorum et alcali: (pH 2-12), reactivitas nulla.
Adaptatio solutionis technicae: simulatio campi thermalis + designatio iuncturae selectionis materiae.
Commoda differentiae: resistentia temperaturae 200% altior quam feltrum carbonicum traditionale, conductivitas thermalis 50% inferior quam feltrum graphitum competitivum, integrationem systematis obsignationis dynamicae sustinet.
